SJT 10383-1993 软磁铁氧体用氧化铁
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页数: |
12 |
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日期: |
2009-6-11 |
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SJ,中,华人民共和国电子行业标准,sJ/T 10383-93,软磁铁氧体用氧化铁,Iron- oxide for soft ferrite,1993-09-28发布1994-01-01实施,中华人民共和国电子工业部发布,中华人民共和国电子行业标准,软磁铁氧体用氧化铁,S.1/'f 10383一93,Iron oxide for sort ferrite,主题内容与适用范围,主题内容,本标准规定了软磁铁牡体用氧化铁的技术要求、试验方法、检验规则、包装、运输、标志等,适用范围,本标准适用于硫酸亚铁或氯化亚铁经热分解而制成的氧化铁.同样也适用于碳酸盐热分,1 容2,卞内1.,解和其它方法制得的氧化铁.该材料主要用于生产软磁铁氧体电子元件.,弓1用标准,GB 622 化学试剂盐酸,GB 623 化学试剂高抓酸,GB 625 化学试剂硫酸,GB 626 化学试剂硝酸,GB 639 化学试剂无水碳酸钠,GB 646 化学试剂抓化钾,GB 652 化学试剂氯化钡,GB 657 化学试剂铂酸钱,GB 661 化学试剂硫酸亚铁馁,GB 67。化学试剂硝酸银,GB 678 化学试剂乙醉,GB 1266 化学试剂氯化钠,GB 1401 化学试剂乙二胺四乙酸二钠,GB 9723 化学试剂火焰原子吸收光谱法通则,GB 9854 化学试剂草酸,GB 11434 铁氧化原材料化学分析方法,HG3-1073化学试剂抓化惚,材料牌号,3.1 软磁铁氧体用氧化铁材料牌号由两部分组成。第一部分“YHT”表示氧化铁,第二部分用,中华人民共和国电子工业部1993-09-28批准1994-01-01实施,— 1 —,SJ/T10383一93,数字表示材料序号,3.2 材料牌号表示,Y,匕,l,一厂,l _, ò 一目.. . ~ - ~, 瑍~..,..目縹, -,材料序号,氧化铁,4 技术要求,4,1 分子式分子量,分子 式 :F :oa;,分 子 量 :15969.,4.2 外观,软 磁 铁 氧体用氧化铁为棕红色粉未.,4.3 主要成分氧化铁及其它成分的含量,各 牌 号 氧化铁中氧化铁含量不低于表1的规定,其它成分的含摄不高于表1的规定.,表 1,讥竺城F:(), 510考Ca O AI:0浮M no,YH T I 99.20 0.01 0。01洛0.01,0 30,YHTZ 99.00 0.02,YHT 3 98.50 0.04 0 05 0 06 0 50,成分,含量,飞震~ ,rio, Mgo 以)犷CI- Na足0+K.0,姗一州-01,TH Y I 0 015,0.01 0。10,TH 丫2 0。03,TH Y 3 0 02 0。10 0 20,5 试验方法-,5.飞外观检查,用 目 测 的方法检查氧化铁的外观,其外观应符合第4.2条的规定,5.2 氧化铁的测定,5.2.1 总铁量的测定,按 GB l l434中氧化铁的分析方法一测定.,52.2 氧化亚铁的测定,按 GB l l434中氧化亚铁分析方法测定.,5.2.3 分析结果的计算,氧 化 铁 含量按下列公式汁算,一 2 一,SJ/T 10383- 93,氧 化 铁 量(肠)二总铁里(%)一氧化亚铁(%)x1.n二(1 ),式中:1.H— 换算成氧化铁的系数,5.3 二氧化硅的测定,5.3.1 方法原理,以 盐 酸 溶解试样,高氯酸脱水,沉淀物经过滤,碱熔,热水提取,加人钥酸按生成杂多酸,加,入还原剂使还原为硅钥兰,侧定有色溶液吸光度,在标准曲线上查出二氧化硅量,计算百分含,量,5.3.2 试剂,a 无 水 碳酸钠(见GB6 39):,b. 盐 酸(见GB 622):(1+ 1 )溶液;,c. 高 叙酸(见GB 623):60%(体积比)溶液,d. 铝 酸 馁(见GB6 57):50g/L溶液.将5g钥酸按加水加热溶解,稀释至l00ml(如浑,浊应过滤), 草 酸 (见夕B9 854),40g/L溶液,将草酸(HjC=O,2H,0)4g溶于100m1硫酸[C(1/,2H,SO,)二4mol/I〕中;,f. 硫 酸 亚铁钱(见GB6 61):5飞/L溶液,称取5g硫酸亚铁馁加水40-50m1,滴加硫酸,(见GB 625)使清亮,用水稀释至100mL,5.3.3 仪器设备,a. 铂 钳塌r,b. 分 光光度计,使用波长660nm.比色皿厚度1cm,5.3.4 操作步骇,5.3-4.1 标准曲线绘制,a. 二 氧 化硅标准比色溶液:SiO2溶液浓度为0.lm g/ml,称取重量为。.1000士。.00 02g,精制脱水的二氧化硅粉末放入铂钳锅中,加入1.oog无水碳酸钠,置于950^-1000℃马弗沪中,熔融.取出冷却后.热水提取,移入1000.!容蚤瓶中,以酚酞为指标剂,加盐酸中和,用水稀释,至刻度,混匀.,少 标 准 曲线绘制:分取二氧化硅标准溶液0.00,0.50,1.00,1.50,2.00,2.50 .1于50ml,容量瓶中,加入。.8m1盐酸,加水至约20ml。加入5m!相酸按,以下按试样分析步骤。以吸光,度作纵座标.二级化硅量作横座标绘制曲线,5.3.4.2 试样分析,称取 试 样 (YHTI约5g,YHT2约3g,YHT3约2g)精确至0.oolg,于100.1烧杯中,加盐,酸60m1,低温加热溶解完全,加高抓酸(YHT1为40ml,YHT2 ,YHT3为30.1),加热使高氛,酸气沿杯壁回流,保持15min.取下烧杯冷却后.加盐酸(YHT1为30m1,Y HT2,Y HT3为,20.1)用水稀释至约200.1.加热使盐类溶解。用致密……
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